2021年9月15日下午，陈鑫博士在躬行C楼102会议室作了题名为《多层六方氮化硼化学气相沉积法制备和应用》的学术报告，重点实验室的部分团队成员和研究生参加了此次报告会。陈鑫博士围绕其在丹麦技术大学留学期间的主要工作，向大家主要介绍了多层六方氮化硼制备方面的心得和进展。报告开始，陈鑫博士深入浅出的介绍了六方氮化硼在二维功能材料封装方面的重要意义，并介绍了近期国际上在提高其制备质量方面的研究进展，指出六方氮化硼在厚度、纯度、表面粗糙度和结晶性等方面的因素对封装材料光电性能方面的影响，并针对这些影响因素基于化学气相沉积技术展开了多种制备方法的探索。在研究过程        中，陈鑫博士利用在蓝宝石上直接生长、利用Ga液辅助扩散生长以及退火生长等多种方法制备出质量较好的多层六方氮化硼，并进行了详细的表征。最后，利用制备的六方氮化硼制备出性能优良的光电器件，对其进行了实际的应用。会后，参会老师从自身的研究方向与其寻找切入点，期望后期展开深入的合作，陈鑫博士就师生关心的问题作了解答。